半导体行业PV真空系统方案

工艺真空系统广泛应用于电子半导体业、光电背光模组、机械加工等行业，需要有极高的运作性能和可靠性。 随着电子厂自动化程度越来越高，很多机器都需要真空作为设备的动力。大部份的真空度要求 在-0.06MPa -0.09MPa 左右。

工艺真空系统的组成： 

由真空泵、 PLC 程序控制系统、储气罐、真空管道、真空阀门、过滤总成等组成的真空系统。 

控制逻辑:设定真空系统的上下限值，启动系统后，其中一台真空泵开始工作，直到真空罐内真空度高于上限值，此时真空泵自动停止，真空罐内真空由真空止回阀自动截止。 

如因工作需求真空罐内真空度降至低于下限值时，另一台真空泵自动启动直到真空罐内真空度抽到上限值超过一定时间，而单台真空泵不能将罐内真空度抽至下限以上时，另一台真空泵将自动启动，直到超过上限。 

运行特点：装置一般自第一次启动后，全部运行过程可以实现全自动控制。其工作中，真空系统内各处的真空度始终在其允许范围内上下波动，其波动范围可根据用户要求进行调整。第一台启动达不到真空时第二台启动至达到设定的真空值当达到后第一台停再第二台停循环工作，装置在无人操作情况下对系统进行自动控制，在停电时可自动封闭真空系统。同时控制箱可以保护真空泵马达过载及短路。 

锂离子电池工厂工艺真空系统宜根据生产性质和真空度的不同分系统设置。

工艺真空系统设置除应符合现行国家标准《电子工业洁净厂房设计规范》GB50472外，还应符合下列规定：

1、锂离子电池生产的真空系统应根据工艺特性选择设计；

2、正负极制造的合浆真空系统宜独立设置；

3、当工艺生产设备排出有腐蚀性气体时，真空系统宜选用耐腐蚀的真空泵；当真空泵无耐腐蚀功能时，对腐蚀性气体宜采取预处理措施；

4、当工艺生产设备排出有爆炸性气体时，工艺真空系统应满足相应防爆要求；

5、注液真空泵轴承宜设置温度监控；

6、真空系统宜设置智能控制系统。

锂离子电池厂房宜根据生产性质和真空度的不同分系统设置，一般包括匀浆真空系统、烘烤真空系统、注液真空系统和工艺真空系统（PV）。

为防止正负极材料交叉污染，正负极匀浆工艺真空系统宜分开设置，同时配有小型真空储压罐储存真空压力和缓冲，实际工作真空压力范围一般为-90kPa~-95kPa，较高为-95kPa~-98kPa。

烘烤真空系统一般就近布局真空设备或系统，以减少真空压力损耗。实际工作真空压力范围一般为：普通烤箱-95kPa~-99kPa，高真空烤箱1Pa~100Pa（绝对压力），高真空自动烘烤干燥线1Pa~100Pa（绝对压力）。真空系统连接各个烘箱或隧道线时，一般采取措施规避可能的串气氧化。

注液真空系统一般配置较大容量真空储压罐储存真空压力和缓冲，储罐单个容积1m³~3m³。实际工作真空压力范围要求为：一般为-90kPa~-95kPa，较高为-95kPa~-98kPa。当真空设备为油封式、水环式、爪式、活塞式真空泵时，系统需配置介质过滤装置或捕集装置，防止电解液腐蚀真空泵。

工艺真空系统工作真空压力范围一般为-70kPa~-95kPa。同时配置较大容量真空储压罐储存真空压力和缓冲工位压力损耗。各工艺设备真空抽气口不宜长期开放大气，导致系统压力快速衰减；末端设置电磁阀，不使用时电磁阀自动关闭。

抽取电解液的真空泵要考虑足够的冷却能力，必要时加轴承的温度监控，防范摩擦生热自燃。